G.657光纤的制备及其性能

作     者：张立永 刘利 陈海斌 Zhang Liyong;Liu Li;Chen Haibing

作者机构：富通集团有限公司浙江富阳311422 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2009年第29卷第6期

页      面：1471-1475页

核心收录：

学科分类：0808[工学-电气工程] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家科技部基金(2007BAE39B02)资助项目 

主　　题：光纤光学 G.657光纤 全合成工艺 

摘      要：G.657光纤具有优异的弯曲损耗不敏感性能,被认为是诸如光纤到户(FTTH)等局域网和接入网系统的首选产品,因此,该光纤的研究倍受重视。提出了一种采用全合成工艺制造G.657光纤的方法,详细探讨了芯层和第一包层区的厚度(a、b)及其折射率差(△1、△2)与光纤性能之间的关系。研究表明,当a的取值在3.5～4.0μm之间,b的取值在0.5～1.9μm之间,△1的取值在0.0034～0.0045之间,△2的取值在-0.0006～0之间时,可制得满足ITU.T G.657.A标准的光纤;当a的取值在2.8～3.2μm之间,b的取值在0.8～2.1μm之间,△1的取值在0.0058～0.0072之间,△2的取值在-0.0016～-0.0008之间,可制得满足ITU.T G.657.B标准的光纤。且该光纤在结构上相对简单,无特殊设计的沟、槽、孔,因此制作工艺相对容易、稳定,易于推广和应用。