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单晶电子衍射的相对强度

Relative intensity of single crystal electron diffraction

作     者:孙瑞涛 韩明 于忠辉 庞年斌 尹文红 SUN Rui-tao;HAN Ming;YU Zhong-hui;Pang Nian-bin;YIN Wen-hong

作者机构:山东理工大学机械工程学院山东淄博255049 

出 版 物:《电子显微学报》 (Journal of Chinese Electron Microscopy Society)

年 卷 期:2009年第28卷第2期

页      面:175-179页

核心收录:

学科分类:07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 0702[理学-物理学] 

基  金:山东省自然科学基金资助项目(Y2006F61) 教育部留学回国人员科研启动基金 

主  题:单晶电子衍射 相对强度 结构因数 

摘      要:本文提出了一种新的表达电子衍射相对强度的经验公式。利用衍射斑点的灰度侧视分布图,详细研究了Ni-Fe-Ga合金中14M调制结构马氏体的选区电子衍射图。结果表明:晶体结构因数的对数值与其相应的衍射斑点灰度积分值差的函数呈线性关系。

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