水合抛光加工的运动学特性
Uniformity of Kinematic Trajectory in Hydration Polishing Process作者机构：浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室杭州310032
出 版 物：《机械工程学报》 (Journal of Mechanical Engineering)
年 卷 期：2015年第51卷第11期
页 面：201-206页
核心收录：
学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0802[工学-机械工程] 080201[工学-机械制造及其自动化]
基 金：国家科技支撑计划(2011BAK15B07) 国家自然科学基金(51375457) 浙江省科技计划(2013C31024) 浙江省自然科学基金杰出青年基金(R1111149)资助项目
摘 要：建立了旋摆驱动方式下水合平面抛光过程中工件的运动学模型,揭示了抛光盘开孔方式对蓝宝石衬底的水合抛光均匀性影响规律。旋摆驱动条件下,杉木抛光盘的开孔方式对蓝宝石衬底水合抛光加工全局均匀性和局部均匀性具有重要的作用,局部均匀性的阶梯状分布为直线、圆环和螺旋线开孔方式的共性特征。与直线、圆环开孔方式相比,在一定的参数取值条件下,螺旋线开孔方式可更好地实现水合抛光加工的全局均匀性和局部均匀性要求。
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