C(sp^(3))—H键直接催化硅基化反应研究进展
Recent Progress in Direct Catalytic C(sp^(3))-H Silylation Reactions作者机构:杭州师范大学材料与化学化工学院有机硅化学及材料技术教育部重点实验室杭州311121
出 版 物:《有机化学》 (Chinese Journal of Organic Chemistry)
年 卷 期:2022年第42卷第2期
页 面:323-343页
核心收录:
学科分类:081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070303[理学-有机化学] 0703[理学-化学]
基 金:杭州市西湖学者计划 杭州师范大学科研启动经费(No.2019DL018)资助项目
主 题:过渡金属 C(sp^(3))-H硅基化 C(sp^(3))-Si键 有机硅 非过渡金属
摘 要:含C(sp^(3))—Si键的有机硅化合物在材料科学、药物化学和精细化学品合成等研究领域有着广泛的应用.通过C(sp^(3))—H的直接催化硅基化形成C(sp^(3))—Si键具有高的原子经济性和步骤经济性特点,近些年已成为含C(sp^(3))—Si键的新型有机硅分子合成领域的一个研究热点.详细总结了C(sp^(3))—H键直接催化硅基化反应的研究进展,并探讨了相关反应的机理和应用范围.