基于相位掩模板的常规光纤制备弱反射光栅

作     者：顾宏灿 姚高飞 黄俊斌 丁朋 GU Hongcan;YAO Gaofei;HUANG Junbin;DING Peng

作者机构：海军工程大学兵器工程学院武汉430033 

出 版 物：《激光技术》 (Laser Technology)

年 卷 期：2022年第46卷第2期

页      面：149-154页

学科分类：070207[理学-光学] 07[理学] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(11774432) 

主　　题：光纤光学 弱反射光纤布喇格光栅 相位掩模板 单模光纤 衍射光场 

摘      要：为了探索采用常规单模光纤制备弱反射光纤光栅的可行性,以降低材料成本和传输损耗,基于相位掩模板法,在常规单模光纤上刻制弱反射光纤布喇格光栅(WFBG),并进行了实验验证。建立相位掩模板刻栅系统光场统一方程,分析光场分布对光纤布喇格光栅(FBG)中心波长和反射率的影响;采用传输矩阵法分析相位掩模板长度、平均折射率变化对FBG反射率和3dB带宽的影响,为WFBG刻制提供理论依据。采用248nm紫外准分子激光器在常规单模光纤上刻制WFBG,分析相位掩模板长度、曝光能量、曝光频率,曝光次数对WFBG中心波长、反射率和3dB带宽的影响,制备出反射率和3dB带宽分别约为0.0016,0.10nm和0.00006,0.34nm两种窄宽的WFBG。结果表明,基于相位掩模板法由紫外准分子激光对常规单模光纤多脉冲曝光,能够稳定刻制WFBG。该研究对WFBG制备的材料选型提供了参考。