金刚石膜表面氨等离子体处理研究
Ammonia Plasma Treatment on Diamond Film Surface作者机构：北京科技大学新材料技术研究院北京100083
出 版 物：《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)
年 卷 期：2013年第42卷第8期
页 面：1526-1530页
核心收录：
学科分类：081704[工学-应用化学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术]
基 金：中央高校基本科研业务费(FRF-TP-13-035A) 国家自然科学基金(51272024) 教育部博士点基金(20110006110011)
摘 要：本文尝试采用微波等离子体CVD技术,实现金刚石膜的制备以及金刚石膜表面的氨等离子体处理,实现氨基功能化修饰金刚石膜的制备。通过扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱(XPS)以及水接触角等对氨等离子体处理前后的金刚石膜进行检测分析。结果表明,采用微波等离子体CVD技术,可以在金刚石膜表面植入氨基实现功能化修饰,从而提高金刚石膜表面活性。同时,金刚石膜的整体品质未出现显著变化。
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