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AlN薄膜对太阳能吸收率的研究

RESEARCH ON AlN THIN FILM FOR SOLAR ABSORPTANCE

作     者:丁迪 张贵锋 冯煜东 侯晓多 Ding Di;Zhang Guifeng;Feng Yudong;Hou Xiaoduo

作者机构:大连理工大学三束材料改性实验室材料科学与工程学院大连116024 兰州物理所表面工程国家重点实验室兰州730000 

出 版 物:《太阳能学报》 (Acta Energiae Solaris Sinica)

年 卷 期:2012年第33卷第1期

页      面:68-72页

核心收录:

学科分类:08[工学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 

基  金:表面工程技术国家级重点实验室基金项目(9140C540105080C5402) 

主  题:磁控溅射 物理气相沉积 AlN薄膜 选择性吸收膜 

摘      要:采用磁控溅射方法,在高纯氩气和氮气混合气氛下成功制备出Al(W)-AlN系太阳能选择性吸收薄膜。借助吸收光谱分析,比较了Al、W两种反射层材料上制备单层AlN和多层AlN薄膜的光谱吸收特性。结果表明:多层AlN薄膜比单层AlN薄膜的吸收性能好;W比Al更适合做反射面材料,W-渐变型多层AlN膜系对太阳能的吸收率可达到80%以上。

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