光生阴极保护技术的研究进展及其存在的问题
Research progress and existing problems of photocathodic protection technology作者机构：北京化工大学材料科学与工程学院材料电化学过程与技术北京市重点实验室北京100029
出 版 物：《材料工程》 (Journal of Materials Engineering)
年 卷 期：2021年第49卷第12期
页 面：83-90页
核心收录：
学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0703[理学-化学]
基 金：中央高校基本科研业务费专项基金(buctrc201730)。
主 题：光生阴极保护 光吸收范围 电子-空穴分离率 电子传导效率 暗态保护
摘 要：本文综述了近年来光生阴极保护在拓宽光吸收范围、提升电子-空穴分离率与电子传导效率以及实现暗态保护等重要问题上的研究现状,重点归纳了六种改性方法,包括导电聚合物修饰、构建异质结、复合二维导电材料、调控形貌、掺杂金属或非金属元素以及耦合储能半导体,指出了当前暗态保护的持续时长较短、部分实验可重复率低等问题,分析并列举了目前尚未解决的技术难点,如克服自然光强度不足、电解质溶液条件苛刻和光生阴极系统设计的复杂性等;最后提出了开发自然光驱动半导体材料、制备胶状电解质与存储电解质的胶囊材料以及设计光生阴极保护涂料等解决途径。
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