“推拉”型希夫碱染料的光化学和光电化学性质

作     者：李富友 郑杰 柳汀汀 金林培 赵新生 郭建权 

作者机构：北京师范大学化学系北京100875 北京大学稀土材料化学及应用国家重点实验室北京100871 北京大学化学系北京100871 

出 版 物：《物理化学学报》 (Acta Physico-Chimica Sinica)

年 卷 期：2000年第16卷第9期

页      面：787-791页

核心收录：

学科分类：081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 0703[理学-化学] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家自然科学基金!(29971005) 

主　　题：希夫碱染料 LB膜 光电响应性质 光化学 PN2 

摘      要：合成了一种光降解的两亲性希夫碱染料,(E)-N-十八烷基-2-[2-(4-N,N-二甲基氨基苯基)胺烯基]吡啶碘化物（PN2）,考察了它的成膜性能,并成功地应用LB膜技术将其转移到石英基片或ITO电极上形成单层膜.对其光化学和光电化学性质的研究表明：它是一个具有二阶非线性光学性质(SHG)和光电响应性质(PEC)的可降解有机染料.化合物PN2单层LB膜的宏观二阶非线性系数为145.6pm·V－1.在含有0.1mmol·L－1氢醌的0.5mmol·L－1KCl电解质溶液中,无偏压时、500nm波长下,PN2-ITO电极的光电转化外量子产率为1.37％.