光致抗蚀剂乳化废水中有机物GC/MS分析
Determination of Organic Pollutants by GC/MS in Photo resist Emulsified Wastewater作者机构:同济大学分析测试中心上海200092 复旦大学分析测试中心上海200433
出 版 物:《四川环境》 (Sichuan Environment)
年 卷 期:2002年第21卷第3期
页 面:48-50页
学科分类:082803[工学-农业生物环境与能源工程] 08[工学] 0828[工学-农业工程] 0804[工学-仪器科学与技术]
主 题:光致抗蚀剂 乳化废水 有机物 GC/MS分析 化学 水质分析
摘 要:采用色谱 -质谱 (GC/MS)联用分析仪分析了电子工业光致抗蚀剂乳化废水中的有机化合物成份 ,测定了该废水中各种有机污染物的含量。分析结果表明 :电子工业中光致抗蚀剂乳化废水的主要成份为有机酸类、醛类、酯类、胺类、芳香酮类、酸酐类、砜类、聚醚类、醇类、芳香烃类、杂环类十一大类有机化合物 ,其中聚丙二醇类、脂肪酸类、丁烯酸类、苯甲酸类、苯甲酸胺、烷基酚聚氧乙烯醚类和噻吩类约占总有机碳含量的 95 %以上。