极紫外光刻光源系统光束指向稳定性研究
Beam Pointing Stability of Extreme Ultraviolet Lithography Light Source System作者机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所激光与物质相互作用国家重点实验室吉林长春130033 中国科学院大学北京100049
出 版 物:《激光与光电子学进展》 (Laser & Optoelectronics Progress)
年 卷 期:2021年第58卷第17期
页 面:272-277页
核心收录:
学科分类:080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程]
基 金:国家重点研发计划(2018YFE0203200) 国家自然科学基金(61904178) 吉林省优秀青年人才基金(20190103133JH) 激光与物质相互作用国家重点实验室基金(SKLLIM1914)
摘 要:设计了一套极紫外光刻光源系统的光束准直系统,用于满足极紫外光刻光源系统对光束指向稳定性的需求,保证极紫外光的转换效率。准直系统由两部分组成,光束抖动检测模块和光束准直模块,通过分析光束抖动机理、光束控制原理,基于虚拟仪器开发软件LabVIEW,搭建了一套检测加控制的闭环准直系统。实验结果表明:光束经过准直系统后,水平方向抖动幅度小于2μm,垂直方向抖动幅度小于4μm,指向稳定性低于6μrad,满足光源系统对光束指向稳定性的要求。