支撑变形对亚纳米级面形检测精度的影响

作     者：刘绚 贾辛 付韬韬 LIU Xuan;JIA Xin;FU Taotao

作者机构：中国科学院光电技术研究所成都610209 中国科学院大学北京100049 

出 版 物：《半导体光电》 (Semiconductor Optoelectronics)

年 卷 期：2021年第42卷第5期

页      面：747-753,759页

学科分类：080902[工学-电路与系统] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 

主　　题：支撑变形 支撑结构 面形精度 复现性分析 

摘      要：光刻投影物镜中透物镜的面形精度是影响光学系统成像质量的关键因素之一,而支撑变形是影响面形精度的一个非常重要的因素。为提高大口径透镜的光学检测复现性,设计了一种整体式柔性支撑结构,分析了重力作用下弹片数量和各尺寸参数等对透镜面形精度及复现精度的影响。分析结果表明:增加弹片数量、减小支撑距离透镜中心的距离及增大弹片厚度可使透镜的变形减小;可以通过缩短弹片长度、增加弹片厚度及弹片数量来提高复现精度。根据各影响因素与复现性的关系分析得到的优化参数下的复现精度为0.21nm rms,能够满足深紫外光刻投影物镜中透镜的高精度面形要求。