三价铬基转化膜生长动力学研究现状及进展
Research Status and Progress on Growth Kinetics of Trivalent Chromium-based Conversion Film作者机构:东北大学冶金学院资源与环境系资源与环境工程研究所沈阳110819
出 版 物:《中国腐蚀与防护学报》 (Journal of Chinese Society For Corrosion and Protection)
年 卷 期:2021年第41卷第5期
页 面:571-578页
核心收录:
学科分类:080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)]
基 金:国家自然科学基金(51701038) 中央高校基本科研业务费专项(N162503002)
摘 要:金属或合金表面三价铬基转化(TCC)膜毒性低,但稳定性较差且容易开裂。如何形成高品质的TCC膜,已成为提高材料耐蚀及稳定性的关键问题。本文通过调研国内外有关TCC膜研究现状,综述了TCC膜的生长过程、电化学特性、微观结构及物相等性能变化。结合氧化物热力学理论及膜层生长动力学模型,分析了TCC膜稳定性及发展机理,总结了目前TCC膜层生长研究中存在的问题,并对其未来发展趋势进行了展望。