沉积温度对YBCO薄膜取向的影响
INFLUENCE OF SUBSTRARTE TEMPERATURE ON EPITAXIAL GROWTH OF YBCO FILM作者机构：北京有色金属研究总院超导材料研究中心 国家有色金属质量监督检验中心
出 版 物：《低温物理学报》 (Low Temperature Physical Letters)
年 卷 期：2009年第31卷第3期
页 面：234-237页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
基 金：国家科技部(项目编号:NKBRSG-G1999064602) 国家自然科学基金(项目编号:10674005,10174003,90303008)资助的课题~~
摘 要：采用脉冲激光沉积技术(PLD)在SrTiO3(100)单晶衬底上制备YBCO薄膜,用X射线对薄膜的取向和织构进行表征,用扫描电子显微镜(SEM)对薄膜的表面形貌进行观察.实验主要研究了衬底温度对薄膜外延取向的影响,结果表明在770℃温度下制备的YBCO有较多的a轴晶粒生成,在800℃温度下制备的YBCO是纯的c轴取向,且平均面内φ扫描半高宽(FWHM)为1.2°,超导转变宽度(△Tc)为0.9K.
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