Si对TiSiN膜组成结构的影响
The Effect of Si Content on Composition and Construction of iSiN Films作者机构：青岛化工学院等离子体表面技术研究所山东青岛266042
出 版 物：《功能材料》 (Journal of Functional Materials)
年 卷 期：1999年第30卷第1期
页 面：66-67页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：报告了等离子化学气相沉积（PCVD）硬膜TiSiN中Si对膜的影响。沉积膜经过电子探针（EMPA）、扫描电镜（SEM）、X射线（XRD）和X光电子谱（XPS）分析。实验表明，在TiN的气相沉积中加入少量Si可以明显改善膜的结构和组成。
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