光学薄膜参数、测试及设备

出 版 物：《中国光学》 (Chinese Optics)

年 卷 期：1997年第11卷第4期

页      面：64-64页

学科分类：08[工学] 0803[工学-光学工程] 

主　　题：光学性质 光学带隙 制备参数 吸收系数 射频偏压 衬底温度 电子能带结构 物理参数 退火 应用物理 

摘      要：O484.5 97042549制备参数和退火对a-C:H膜光学性质的影响=Effectsof doposit parametersand annealing onoptical properties of a-C:H films[刊,中]/陈光华(北京工业大学应用物理系.北京(100022)),卢阳华(兰州大学物理系.甘肃,兰州(73000))//半导体学报.—1996,17(11).—846-851研究了制备参数和退火对a-C:H膜的光学性质的影响。得到了样品的吸收系数、光学带隙和带尾宽度等反映a-C:H膜电子能带结构的物理参数。结果表明,吸收系数随着衬底温度、射频偏压增加而上升,随反应室压强的升高而下降;光学带隙随衬底温度。