2m比长仪纳米级精度线间距测量系统的研究

作     者：高宏堂 叶孝佑 邹玲丁 孙双花 沈雪萍 甘晓川 常海涛 王健 GAO Hong-tang;YE Xiao-you;ZOU Ling-ding;SUN Shuang-hua;SHEN Xue-ping;GAN Xiao-chuan;CHANG Hai-tao;WANG Jian

作者机构：中国计量科学研究院北京100013 北京航空航天大学北京100191 

出 版 物：《计量学报》 (Acta Metrologica Sinica)

年 卷 期：2012年第33卷第2期

页      面：97-103页

核心收录：

学科分类：0808[工学-电气工程] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 0804[工学-仪器科学与技术] 080402[工学-测试计量技术及仪器] 0703[理学-化学] 

主　　题：计量学 比长仪 光电显微镜 动态瞄准 纳米精度 

摘      要：介绍了2m比长仪系统的组成，对其采用光电显微镜动态瞄准刻线和激光干涉测长原理进行了分析，研究了提高刻线瞄准精度和激光干涉测长精度的方法及利用现代电子技术实现刻线信号和干涉信号自动同步快速处理方法。自动信号处理系统基于FPGA现场可编程电路技术和计算机技术。通过对金属线纹尺测量的实验表明，依据JJG331—1994激光干涉比长仪检定规程进行实验，2m比长仪单次最佳刻线瞄准精度优于10nm（la），对其测量的不确定度分析表明，对于测量高质量的高等别线纹尺，其测量不确定度U=（20＋40L）nm（k=2）。