电子束曝光机的一种新型精密工件台结构特点及几何精度分析
Structural Design and Geometrical Accuracy Analysis of a New Precision Stage for E-Beam Lithography Machine作者机构：中国科学院光电技术研究所
出 版 物：《电子工业专用设备》 (Equipment for Electronic Products Manufacturing)
年 卷 期：2005年第34卷第6期
页 面：11-13,21页
学科分类：08[工学] 080203[工学-机械设计及理论] 0802[工学-机械工程]
摘 要：介绍了电子束曝光机的一种新型精密工件台,在结构上成功地将工件台的承载力与导轨的导向作用分离开来,极大地提高了工件台的运动精度和运行的平稳性。论述了精密工件台的结构设计要点、几何精度以及达到的技术指标。
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